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蒸發(fā)離化源又名真空等離子體加速器或圓形陰極弧源、電弧源、小弧源。本蒸發(fā)源具有鍍料蒸發(fā)率高、工作可靠、壽命長,能通過使用不同的鍍料產生多種鍍料蒸汽等特點。


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磁控濺射鍍膜技術在輝光放電中進行,膜層粒子來源于輝光放電中的氬離子對陰極靶材產生的陰極濺射作用。濺射下來的膜層原子沉積到工件上形成所需膜層。


公司自創(chuàng)建以來,一直奮斗在鍍膜行業(yè)一線,并視客戶體驗為立足之本。研發(fā)部由浙江大學信息與工程學院多名博士生導師親自領軍,為客戶提供自動化程度高,性能優(yōu)異的電源及相關產品。

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